2026深圳國際光刻設備與光掩膜展會
時間：2026年4月9-11日   
地點：深圳會展中心（福田）
展會背景
微電子技術的發展一直是光刻設備和技術變革的動力，21世紀光刻技術將繼續居于諸多技術之首。光刻技術從誕生以來,在半導體加工制造行業中,作為圖形轉移技術而廣為應用。隨著芯片集成度的不斷提高、器件尺寸的不斷縮小以及器件功能的不斷提高,半導體加工技術中最為關鍵的光刻技術和光刻工藝設備,必將發生顯著的變化。
隨著集成電路產業的發展，高端芯片的集成度達到了數千乃至數億晶體管，推動芯片封裝技術向更高密度、更高性能發展，在傳統的接近/接觸式光刻機日趨無法滿足高性能、高密度、低成本的先進封裝工藝發展需求的情況下，先進的大視場、大焦深、高精度投影光刻機逐步成為先進封裝生產線的關鍵設備。由上海訓通展覽有限公司于眾多協會攜手在深圳會展中心舉辦“2026深圳國際光刻設備與光掩膜應用技術展覽會暨發展論壇”，歡迎廣大相關單位參展、參觀！  
日程安排：
報道布展：2026年4月07-08日        開幕式：2026年4月09日09：30
展示交易：2026年4月09-11日        撤  展：2026年4月11日15：00
展品范圍：
◆曝光光源、光學系統、電系統、機械系統和控制系統等；
◆光刻機、光刻技術、步進投影光刻機、掃描投影光刻機、納米光刻技術、無掩模光刻技術、沉浸式光刻技術、準分子激光光刻技術、極紫外光刻機、電子束光刻、離子束光刻、X射線光刻、STM光刻、納米壓印光刻技術、微光刻技術、電子束曝光機、離子束曝光、3D 打印、刻蝕機、光刻機零部件、光刻前處理材料、曝光系統、光刻-掩模無機芯片與加工系統、光源與光刻膠、光刻膠原材料、光刻膠涂覆與處理設備等；
◆光掩膜、鉻版、干版，凸版、液體凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜圖形描繪設備、光掩模測試等； 
參展事項
1、參展單位詳細填寫好《參展合同表》并加蓋公章，郵寄或傳真至組委會；
2、組委會收到確認申請表，參展商于3個工作日內將參展費用50%或全款匯入組委會帳戶，并將匯款憑證傳真至組委會以便查對，否則不予保留預訂展位。
3、展位安排以“先報名、先交款、先安排”為原則，組委會有權對少量展位予以調整；
4、展品運輸、展會接待、住宿等事宜將在開展前一個月組委會另行發送《參展商手冊》。
 2026深圳國際光刻設備與光掩膜應用技術展組委會 
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